又一中国刻蚀机巨头崛起,领先世界水平

       芯片制造有三大核心环节：薄膜沉积、光刻与刻蚀。其中，光刻环节成本最高，其次便是刻蚀环节。光刻是将电路图画在晶圆之上，刻蚀则是沿着这一图案进行雕刻。这一过程中，会用到的设备便是刻蚀机。
       相较于中国在光刻机领域的巨大短板，在刻蚀机领域，在以中微半导体为首的刻蚀机巨头的带领下，中国刻蚀机已经达到了世界领先水平。
       从65nm到5nm
       中微半导体成立于2004年，由刻蚀机行业风云人物尹志尧一手创建。尹志尧是硅谷最有成就的华人之一，曾在英特尔、LAM研究所、应用材料等企业供职，在半导体领域有着20余年的经验。
       在他60岁，尹志尧放弃百万美元年薪，顶着美国重重压力，带着三十余人精英团队回国，并创建了中微半导体。
       中微半导体成长十分迅速，11年的时间，便从65nm来到了5nm。
       2019年末，中微半导体的5nm刻蚀机获得台积电认可，成功用在其生产线上。这标志着，中国刻蚀机已经达到业界先进水平。
      
       随着中微半导体产能的逐渐提升，以及在国产替代大潮的推动下，中微半导体将在刻蚀机领域占据更多的份额。
       而且，尹志尧在第二届中国芯创年会上表示，中国设备公司必须进入国际市场。这意味着，中微半导体还将冲击海外市场。
       无惧美方的打压
       中微半导体的发展引起了美方的警惕，因此，日前中微半导体被美国国防部列入“中国涉军企业名单”。此前，中芯国际也遭受了这一待遇。
       对此，1月15日中微公司回应称，这一情况对公司生产经营没有实质影响，公司目前进出口业务情况一切正常。
       中国半导体产业起步晚，国产化率较低，在刻蚀机领域也是如此。
       刻蚀机制造难度虽较光刻低，但半导体工艺制程微小且复杂，而且半导体工艺制程的不断进化与结构设计更新，都给刻蚀机的制造带来了不小的挑战。
       如今，泛林半导体、应用材料、东京电子是全球前三大刻蚀机巨头，占据了半导体刻蚀机领域94%的市场。而中国企业的占比仍是十分有限。
       但在中微半导体、北方华创等企业的快速崛起下，国产刻蚀机已经迎来曙光。相信，国产刻蚀机不久后也能在国际市场上大放异彩，令人期待。