ASML明年将发布新一代EUV光刻机 三星太子急赴荷兰

      10月15日，据国外媒体报道，目前全球顶尖的光刻机生产商ASML正在研发第三款EUV光刻机，并计划于明年年中出货。
      
      从其所公布的信息来看，新款光刻机型号命名为TWINSCAN NXE:3600D，相比上一代产品，新款EUV光刻机生产效率将提升18%，曝光速度为30mj/cm²，每小时可处理160片晶圆。

      有意思的是，在2019年的年报中，ASML便提到正在研发新一代EUV光刻机的计划，不过并未透露具体型号，只是披露将在2022年初计划出货，2024年后大规模生产。而此次所公布的EUV光刻机如果是2019年财报中提到的那款，那么这款光刻机发布的计划意味着已经提前了。

      据ASML公布的2020年第三季度财报来看，第三季度销售额为40亿欧元，净利润11亿欧元，毛利率为47.5%，净利润为27.5%，新增订单为29亿欧元，其中有5.95亿欧元来自4台EUV设备，平均售价为1.48亿欧元。

      EUV光刻机是当前7nm工艺以下必不可少的设备，全球仅有ASML能够供应，且仅有台积电和三星掌握了7nm制程以下的芯片制作。

      当前ASML所售出的两款EUV光刻机型号分别为TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，均采用13.5nm极紫外光源，曝光速度为20mj/cm²，每小时处理125片晶圆。

      有意思的是，作为与台积电激烈竞争的三星，近日被韩媒报道称，三星电子副会长李在镕证实，已经正在与ASML进行谈判，以推进与ASML的业务关系。

      而几个月之前，三星便已经宣布，正在致力于开发EUV扫描技术，此次三星太子李在镕前往荷兰ASML，也是为了探讨如何发展EUV技术。李在镕参观了EUV设备的生产线。

      显然，从目前来看，三星已经提前介入了下一代EUV技术的争夺当中，面对三星的出招，台积电方面又会如何应对呢？